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2020-07-17 10:00

研磨抛光液残留清洗剂方案

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化学机械抛光液(CMP)是近年来处于前端的研磨抛光方式,大致有二氧化硅抛光液,氧化铈抛光液,氧化铝抛光液等等常见材料。当金属材料抛光至镜面效果时,抛光液在物理和化学同时作用下,在基材上面形成顽固的固体残留物。尤其是使用纳米二氧化硅(硅溶胶)抛光过的铝合金高光镜面,在抛光液干涸在基材表面,已经是业界头等清洗难题。光合金属清洗剂,用水性分散原理,解决行业抛光液残留的棘手问题。很多研磨抛光加工单位,使用一下光合的清洗剂,要不是清洗不了抛光液残留物,就是能清洗干净,但金属(铝合金)高光镜面效果被破坏,在没有更合适的办法下,停留在手工清洗高光镜面加工件,效率低下,对员工身体,环境都不利,无法实现现代化生产要求。
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